GMSD2000系列制剂高剪切胶体磨一、产品名称概述：制剂高剪切胶体磨,制剂超高速胶体磨药,物制剂纳米胶体磨,制剂专用胶体磨

二、制剂的定义

所谓制剂，从狭义上来讲，就是具体的按照一定形式制备的成品，如阿莫西林胶囊等。包括中药材、中药饮片、中成药、化学原料药及其制剂、生化药品、血清疫苗、血液制品和诊断药品等

三、制剂的分类

按形态分类

1．液体剂型（如溶液剂、注射剂等）

2．固体剂型（如片剂、胶囊剂等）

3．半固体剂型（如软膏剂、凝胶剂等）

4．气体剂型（如气雾剂、喷雾剂等）

按分散系统分类

1.

溶液型

2.胶体溶液型

3.乳状液型

4.混悬液型

5.

气体分散型

6.

固体分散型

三、制剂的生产工艺（以液体制剂为例）

将固体或液体在一定条件下溶解或分散在水、醇、脂肪油或甘油中，有时加入添加剂以增加的溶解度、分散度，增加产品的稳定性或改进其不良气味。对于这类液体制剂的一般要求是：溶液应澄明；乳剂或混悬剂应保证其分散相小而均匀；有效成分的浓度应准确、稳定；制剂应适口，无刺激性；包装容器应清洁或。

在生产制剂的过程中，工艺配方、添加剂等生产工艺是很重要的环节，好的配方才能制备号的制剂产品，而另一方面，特别是对于无法溶解的液体制剂类，需要选择高精度的分散设备进行的分散，保证能够分散悬浮到液体基质中去，根据我司多家客户案例，推荐GMS2000系列高速剪切胶体磨进行的研磨分散，如果对于液体制剂的体系要求更高，推荐GMSD2000系列超高速研磨分散机，根据具体需求，我司推荐性价比高的解决方案。

液体制剂混悬型的稳定在于使用的胶体磨的研磨性能，普通胶体磨转速3000rpm，研磨出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，极大限制了新型阿苯达唑混悬液的推广，上海思峻高剪切胶体磨GMS2000系列转速高达18000rpm，是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。

四、制剂胶体磨的简介

GMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。经过GMS2000胶体磨研磨后的混悬液固体颗粒粒径80%小于10UM，分布范围极窄。

GMSD2000系列制剂高剪切胶体磨

五、SGN高剪切胶体磨的优点：

1、转速和剪切速率：

SGN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转

F=23/0.7X1000=32857S-1

F=40/0.7/X1000=57142S-1

国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

2、胶体磨头和间距：

SGN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三层乳化模块，超高速模块，GMS胶体模块，GMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

3、机械密封：

SGN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转

国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

六、GMS2000系列高剪切胶体磨型号表

型号

流量L/H

转速rpm

线速度m/s

功率kw

入/出口连接DN

GMS2000/4

300

18000

51

4

DN25/DN15

GMS2000/5

1000

14000

51

11

DN40/DN32

GMS2000/10

2000

9200

51

22

DN80/DN65

GMS2000/20

5000

2850

51

37

DN80/DN65

GMS2000/30

8000

1420

51

55